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江南-阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用:最早2025年大量生产High NA EUV

发布日期:2024-06-18 作者:江南

[导读]6月4日动静,据媒体报导,比利时微电子研究中间(IMEC)与阿斯麦(ASML)公布在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设结合High-NA EUV光刻尝试室(High NA EUV Lithography Lab)。 6月4日动静,据媒体报导,比利时微电子研究中间(IMEC)与阿斯麦(ASML)公布在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设结合High-NA EUV光刻尝试室(High NA EUV Lithography Lab)。 该尝试室颠末多年的精心构建与集成,现已周全预备停当,将为全球领先的逻辑和存储芯片制造商和进步前辈材料和装备供给商供给尖端手艺撑持。 尝试室内的焦点装备为一台原型高数值孔径EUV扫描仪(TWINSCAN EXE:5000),和与之配套的处置和计量东西,这些东西将配合助力将来芯片制造的冲破。 此次结合尝试室的开放,被视为High-NA EUV手艺多量量出产预备进程中的主要里程碑。业界估计,跟着该手艺的不竭成熟和普和,将在2025-2026年时代迎来年夜范围的量产利用。 值得一提的是,阿斯麦此前已公然展现了最新一代的High NA EUV光刻机。这款光刻机体积重大,相当在一台双层巴士,重量更是高达150吨江南体育。 因为其重大的体型和复杂的组装进程,该装备需要被分装在250个零丁的板条箱中进交运输,显示了其在制造和运输进程中的不凡挑战。 虽然High NA EUV光刻机的制造本钱昂扬,据流露其售价高达3.5亿欧元(约合人平易近币27亿元),但其在半导体系体例造范畴的价值无可估计。它将成为全球三年夜晶圆制造厂实现2nm以下进步前辈制程年夜范围量产的必备兵器。

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援用俄罗斯塔斯社最新动静,俄罗斯自研的首台光刻机已制造完成,今朝正在进行测试。

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本地时候4月22日,ASML公布已与荷兰埃因霍温市当局签订了一份意向书,打算在该市的北部机场四周进行扩建,届时将可容纳2万名新员工。这也许意味着,其搬离荷兰的打算也将告一段落了。

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4月23日动静,荷兰对光刻机巨子阿斯麦分开的动静感应十分管忧,但此刻环境有了较着的好转。

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业内动静,近日光刻机制造商阿斯麦(ASML)发布了2024年第一季度事迹,财报显示,该公司当季总净发卖额53亿欧元,环比降落27%;毛利率51.0%,上季度为51.4%;净利润12亿欧元(当前约92.4亿元人平易近币),环比...

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ASML发布的2023年度陈述,以“小影象,年夜影响”为主题,揭示了ASML的贸易模式和计谋、公司治理,和财政表示环境。

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近日,美国智库计谋与国际研究中间(CSIS)发文指出:硅光子学支持并鞭策了光互连和光计较的前进,这项新兴手艺可能会改变中美在半导体和人工智能方面的竞争。

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1月24日,阿斯麦(ASML)发布了2023年第四时度和全年财报,并将2024年定为调剂年,估计全年发卖额与2023年根基持平。

要害字: ASML 阿斯麦

12月10日动静,尼康公布,将在2024年1月正式推出ArF 193纳米淹没式光刻机“NSR-S636E”,出产效力、套刻精度城市有进一步晋升。

要害字: 尼康 光刻机


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